VALTRON®TriAct™ DF划片液系列由非离子表面活性剂、消毒活性剂和其他功能性成分配制而成，适用于半导体晶片划片工艺。该产品可有效消除硅尘颗粒，对生产系统管道进行消毒，其泡沫低，消泡快， 易于冲洗。划片液的浓缩液或低稀释液均可阻止微生物生长，防止腐蚀，同时减少和中和静电荷。除清洁外，VALTRON®TriAct™ DF系列润滑切割刀片，可在稀释率高达1：4000时显著降低摩擦和表面张力，同时作为冷却剂以减少硅片破裂热。
VALTRON®TriAct™DF310是由水溶性涂层和其他添加剂配制而成，以降低表面张力，形成保护
涂层，润滑和湿润基板表面，防止或减少切屑，毛刺，硅尘和热导致开裂和灰屑
并抑制半导体激光晶片切割过程中的腐蚀。VALTRON®DF310激光切丁液是的生物降解的。
Ablestik 3145耐低温 可以粘接金属，二氧化硅，滑石，氧化铝蓝宝石，
陶瓷，玻璃和塑料
ABLESTIK 3145通过美国宇航局NASA标准。 产品用胶。
乐泰ABLESTIK 3145在室温下坚固、、高冲击的键，改善传热和保持电气隔离。
常应用于晶体管，二极管，电阻，集成电路，热敏元件。医疗器件粘接。低温固化。
VALTRON®UltraLux™ LF-1009-SB液体蜡粘合剂适用于直径大于2英寸的半导体和光伏晶圆基板。UltraLux™ LF-1009-SB液体蜡粘合剂具有高粘合强度、良好的耐温性和低黏性，可在设备晶圆和晶圆基板上提供可靠的薄层粘合剂
VALTRON®TriAct™ DF划片液系列由非离子表面活性剂、消毒活性剂和其他功能性成分配制而成，适用于半导体晶片划片工艺。该产品可有效消除硅尘颗粒，对生产系统管道进行消毒，其泡沫低，消泡快， 易于冲洗。划片液的浓缩液或低稀释液均可阻止微生物生长，防止腐蚀，同时减少和中和静电荷。除清洁外，VALTRON®TriAct™ DF系列润滑切割刀片，可在稀释率高达1：4000时显著降低摩擦和表面张力，同时作为冷却剂以减少硅片破裂热。
VALTRON®AD4803A/B临时胶粘剂系统是由VALTRON®AD4803A组成的双组分环氧树脂系统
树脂和VALTRON®AD4803B硬化剂。这种胶粘剂在室温下的固化时间约为2小时。这么快
固化胶粘剂系统有效地将材料粘在切丁基板上，并允许快速和有效的去除。这一系列的
临时胶粘剂可以代替临时蜡胶。使用后蜡不容易去除，但VALTRON®
AD4803A/B系统可以用热水在几分钟内取出。
特的功能
•室温固化时间为2小时
•可用于各种包装系统
•热水容易脱胶
•完全可从所有粘接表面拆卸
使用VALTRON®碱性洗涤剂
系统属性
颜色
比重(25°C)
粘度、cps (# 7
旋转器，每分钟20转
25°C)
白色的
1.14
