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大直径硅单晶的制备与数值分析\大直径硅单晶是微电子工业的基础材料,广泛应用于集成电路备件和硅片制造领域,是现今信息社会的基石。根据半导体设备材料产业协会(SEMI)的报告,大直径硅单晶的需求依然旺盛,450mm硅单晶要继续开发研究。当前主流集成电路设备用部件急需400mm硅单晶并提出低成本的要求,开发400mm硅单晶和研究晶体制备的工艺过程,无疑具有重要的理论意义和现实需求。同时,开发下一代450mm集成电路用硅晶体、研究外加磁场对改善晶体质量的作用,对于我国未来制造450mm硅片具有重要的战略意义。蓝宝石长晶炉回收，多晶硅铸锭炉回收，提拉式长晶炉回收，多晶长晶炉回收，卧式长晶炉回收，拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，单晶炉型号定义\单晶炉型号有两种命名方式，一种为投料量，一种为炉室直径。比如85炉，是指主炉筒的直径大小，120、150等型号是由装料量来决定的\单晶炉主要需要控制的方面一、晶体直径（尺寸）二、温度（功率控制）三、原料（硅料）四、泄漏率，质量等\本文由rxl提供，欢迎大家完善
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除尘机理示、扩散当含尘气流中的粉尘颗粒粒径小于1Lm 以下,特别小于0.1Lm 时，这些颗粒在随气流运动时不再沿着气体流线绕流捕集物，因而也再不能遵循惯性碰撞或接触阻留的机理被捕集物所捕集分离，而另一捕集机理——扩散在起作用。由于气体分子之间的热运动而产生的不规则运动，使气体分子之间的热运动而产生的不规则运动，使气体分子轰击着粉尘颗粒而使颗粒作扩散，可以使粉尘颗粒均匀地分布于整个气体空间。真空技术网(认为如果有一物体置于气体之中，一些超微颗粒通过扩散而沉降在这物体的表面上，从而使这些超微颗粒从气体中捕集分离、静电力悬浮在气流中的尘粒，如带有一定的电荷，可以通过静电力使它从气流中分离。由于自然状态下，尘粒的荷电量很小，因此，要得到较好的除尘效果，设置的高压电场，使所有的尘粒都充分荷电。凝聚凝聚作用不是一种直接的除尘机理。通过超声波、蒸汽凝结、加湿等凝聚作用，可以使微小粒子凝聚增大，然后再用一般的除尘方法去除。我们设计除尘器时要根据不同的具体情况，考虑一定的需要，采用某种除尘机理或者是几种除尘机理的综合运用。表1 列出几种除尘机理的除尘情况供为参考。
