原子层沉积设备是一种用于力学、物理学、材料科学领域的仪器。应用范围：（1）半导体领域（晶体管栅极电介质层（高k材料），光电元件的涂层，集成电路中的互连种子层，DRAM和MRAM中的电介质层，集成电路中嵌入电容器的电介质层，（2）纳米技术领域（中空纳米管，隧道势垒层，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，纳米晶体，纳米结构，中空纳米碗，存储硅量子点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层）。（3）可沉积材料类型，金属氧化物ZnO，TiO2，Al2O3，SnO2，金属Pt，Ir等。
原子层沉积设备（ALD）的应用范围
资料来源：共研产业咨询（共研网）整理
2021年原子层沉积设备（ALD）市场销售额从2017年的17.12增长至21.57亿美元，预计2022年原子层沉积设备（ALD）市场销售额约22.56亿美元。
2017-2022年原子层沉积设备（ALD）市场销售额走势
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原子层沉积设备（ALD）的主要生产企业集中在欧洲，美国，中国和日本。中国原子层沉积设备（ALD）市场规模在排在前列，2021年中国原子层沉积设备（ALD）市场规模占市场销售总量的近30%。
2021年中国原子层沉积设备（ALD）市场规模占的比重
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