铜对水的污染是印制电路生产中普遍存在的问题，氨碱蚀刻液的使用更加重了这个问题。因为铜与氨络合，不容易用离子交换法或碱沉淀法除去。所以，采用第二次喷淋操作的方法，用无铜的添加液来漂洗板子，大大地减少铜的排出量。然后，再用空气刀在水漂洗之前将板面上多余的溶液除去，从而减轻了水对铜和蚀刻的盐类的漂洗负担。
蚀刻是使用强酸切入金属表面未受保护的部分，以在金属上产生凹版设计(通过切割、雕刻或雕刻成平面来产生图像)的过程。作为一种凹版版画制作方法，它和雕刻一样，是旧原版版画重要的技术，至今仍被广泛使用。
金属蚀刻的原理
通常所指金属蚀刻也称光化学金属蚀刻(photochemicaletching)，指通过曝光制版、显影后，将要金属蚀刻区域内的保护膜去除，在金属蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。起初可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量。
