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多功用磁控溅射镀膜系统，由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体气氛下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸腾镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造，使整个薄膜生长和器材制备过程高度集成在一个完整的可控环境气氛的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高功用、大面积有机光电器材和电路的制备。
暴露在空气中的真空镀膜机表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附现象、化学反应、浸出干燥过程、机械处理、扩散和偏析过程都增加了各种组分的表面污染物。真空材料表面的常见污染物如下。
①油脂:润滑剂、切削液、真空油脂等。在加工、组装和操作过程中被污染;
②水基类:操作时的手汗、吹气时的水蒸气、唾液等。
③表面氧化物:材料长时间放置在空气中或潮湿空气中形成的表面氧化物;
④酸、碱、盐类物质:清洗时的残留物质、手汗、水中的矿物质等。
⑤环境空气中的抛光残渣、灰尘和其他有机物等。
与传统的镀膜方法相比，真空镀膜属于干法镀膜，其主要方法有以下几种:
1.真空蒸发
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发材料使其蒸发或升华，蒸发的离子流直接射向基片，在基片上沉积固体薄膜。
2.溅射涂层
溅射镀膜是一种真空条件，在阴极施加2000V高压激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极喷出原子。溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.离子电镀法
即干式螺杆真空泵制造商已经推出的真空离子涂层。它是在上述两种真空镀膜技术的基础上发展起来的，所以具有两者的工艺特点。在真空条件下，工作气体或蒸发物质(膜材料)通过气体放电被部分电离，蒸发物质或其反应物在离子轰击下沉积在基片表面。在成膜的过程中，衬底总是受到高能粒子的轰击，这使得它非常干净。
4.真空卷绕涂层
真空镀膜是通过物理气相沉积在柔性基板上进行连续镀膜的技术，以实现柔性基板的某些功能性和装饰性。
