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面议主要技术参数 产品名称 5KV/2A/10KW二极溅射镀膜电源 WT10-5K 产品型号 WT10 产品品牌 跃迁 电源类型 全数控智能电源 输入电压： AC380V±10% 输出 功率:..08月19日 -
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300.00元镍钒靶材名称：镍钒（NiV）靶材 Nickel Vanadium Target纯度：99.9%，99.95%, 99.99%形状：平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶 在集成电路的膜层中一般用金做导电层，但金与..12月13日
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400.00元贵重金属价格按当日行情报价，下单前请咨询客服我们生产的5N纯金蒸发料检测数据检测项目检测标准检测结果Au (wt %)≥99.99999.999Ag≤ 2ppm12月13日
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EMI电镀，EMI真空镀，EMI镀膜，EMI真空镀膜，EMIE溅射镀膜、EMI真空电镀技术就是利用磁控溅射镀膜及特殊复合的工艺在塑胶。五金、及其他基材上，镀上一层铜、银、镍等导电涂层，具有良好的导..03月04日
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1200.00元氧化铝靶材Al2O3 Target 陶瓷溅射靶材 氧化铝颗粒 氧化铝靶材 三氧化二铝靶材 纯度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS号：1344-28-1 密度：4 熔点：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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台湾富士康用溅射镀膜设备转让双门蒸发4靶溅射系统1.5米炉体 转让富士康真空溅射镀膜设备4套平面溅射靶带POLYPOLD深冷 由富士康闲置下来的磁控磁控溅射镀膜设备带双门电阻蒸发系统 采用01月15日
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1500.00元氧化镁靶材 MgO靶材 氟化镁靶材 陶瓷溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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转让富士康真空溅射镀膜设备4套平面溅射靶带POLYPOLD深冷 由富士康闲置下来的磁控磁控溅射镀膜设备带双门电阻蒸发系统 采用全不锈钢炉体，设备直径1400，高度1500mm采用全自动控制，全部01月15日
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100000.00元仓库大量多弧中频镀膜机 1.3×1.2米多弧中频机，双层不锈钢炉体，2台400扩散泵，30KW偏压，2对中频，1个可移动平面磁控溅射金靶 1300米多弧中频机，双层不锈钢炉体，2台400分子泵，30KW偏压..12月19日
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高纯镍合金镍钒溅射镀膜靶材93:7 wt%,蒸发镀膜颗粒材料，镍钒合金旋转靶材 英文名称：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 专注于生产具有最高密度和最小平均晶..07月01日
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面议磁控溅射镀膜是一种物理气相沉积技术，它涉及使用高能量的离子（通常是氩离子）轰击作为靶材的涂层材料，使其原子被溅射出来并沉积在工件表面形成薄膜。磁控溅射镀膜检测标准（部分）1、 T/GV..04月26日
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KT-Z1650CVD是一款小型台式蒸发功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金07月16日
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945.00元碳化钨靶材是一种由高纯钨和碳为原料构成的靶材，颜色为黑色六方，有金属光泽，硬度与金刚石相近，为电、热的良好导体，碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸，易溶于硝酸-氢氟酸的混合酸中，纯的碳化..12月17日
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1300.00元铬是银白色有光泽的金属，纯铬有延展性，含杂质的铬硬而脆。密度7.20g/cm3。可溶于强碱溶液。铬具有很高的耐腐蚀性，在空气中，即便是在赤热的状态下，氧化也很慢。不溶于水。镀在金属上可起..12月17日
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