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WT5-5KW直流磁控溅射镀膜电源 输入电压:AC 220V/380V(土10%) 输出功率: 5KW 输出电压:负极性电压200~800v‘,高电压>1kv 输出电流:6A 冷却方式:风冷直流磁控溅射(DC magnetron sputt..08月28日
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中国磁控溅射镀膜设备行业运行状况及前景趋势分析报告2023-2029年 【报告编号】:27510 【出版时间】:2023年3月 【出版机构】:中信博研研究网 【报告价格】:印刷版6500元 电子版6800元 印刷版+..05月04日
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面议磁控溅射镀膜是一种物理气相沉积技术,它涉及使用高能量的离子(通常是氩离子)轰击作为靶材的涂层材料,使其原子被溅射出来并沉积在工件表面形成薄膜。磁控溅射镀膜检测标准(部分)1、 T/GV..05月04日
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NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机:的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内..04月22日
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NSC-4000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 ..04月19日
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NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以..04月19日
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98000.00元二手韩一磁控溅射镀膜机/双靶磁控真空镀膜机/磁控光学镀膜机介绍 磁控溅射镀膜技术是一种的表面处理技术,被广泛应用于各种领域。它利用磁场和电场的相互作用,将靶材表面的电子从束缚状态激..03月28日
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200.00元美国AE公司 中频电源PE II 性能: 1.程序自动保护功能 2.控制信号源:模拟/数字端口或前面板控制 3.调节模式:功率,电压或者电流 4.冷却及周围环境温度:进口端冷却水的温度在+5℃到+30 ..01月20日
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10000.00元二手稳压电源 中频电源20-60KW电源 直流电源二手弧电源 真空镀膜电源 输入相数:单相或三相 电压:220/380V 频率:50Hz 输入方式:4线(含地线) 输出波形:直线 功率:30KW /60KW /..12月27日
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43800.00元金属镀膜磁控溅射薄膜监测,7寸人机界面,自动手动模式切换控制,大功率1000w直流磁控溅射 单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与..08月18日
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39800.00元郑州科探仪器设备是定制物理 气相沉积(PVD)系统的设计者和制造商,客户服务和售后服务。拥有7年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和工程师的支持下,高度积极地开发新设..08月02日
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36800.00元KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪,仪器虽小,功能。配备有电压电流反馈,样口台旋转样高度可调节,及电动挡板功能。通过定时调节预热功率蒸发功率,可对大部分金属进地均匀..03月27日
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35600.00元离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元..03月22日
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38600.00元小型磁控溅射仪主要特点/优势: ★ 玻璃钟罩真空腔室,直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察; ★ 两组水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计; ★ 真空..02月11日
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1008.00元钛铝合金靶材我们能提供的成分:TiAl5 at%,TiAl10 at%,TiAl20 at%,TiAl25 at%,TiAl 30 at%,TiAl40 at%,TiAl50 at%等...我们能提供的纯度:99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%我们的..12月16日
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