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天琪回收库存锆珠,韶关氧化锆珠回收厂家电话

更新时间:2024-06-13 02:52:36 编号:ca1egvpn8c5497
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李新军

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磁控溅射镀膜靶材:
金属锆溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材 ,氮化物陶瓷溅射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材 ,硅化物陶瓷溅射靶材 ,硫化物陶瓷溅射靶材 ,碲化物陶瓷溅射靶材 ,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),化铅靶材(PbAs),化铟靶材(InAs)。
高纯高密度溅射靶材有:
溅射靶材(纯度:99.9%-99.999%)

磁控溅射靶材:锆靶,铪靶
磁控溅射靶材种类:
金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材,氮化物陶瓷溅射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材,硅化物陶瓷溅射靶材,硫化物陶瓷溅射靶材,碲化物陶瓷溅射靶材,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),化铅靶材(PbAs),化铟靶材(InAs)。 [2]


磁控溅射原理:
在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,如今,常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

锆作为与氧有亲和力的活泼金属,氧化膜的耐蚀性能决定了其可以胜任多重腐蚀环境。
一、工业纯锆在所有的沸腾的所有浓度盐酸中,腐蚀速率均小于0.025mm/a。
二、在小于70%的硫酸中锆具有的耐蚀性。此外由于不锈钢和镍合金不能在高温、20%的硫酸和40-60%的沸腾温度以下的硫酸范围内使用,故锆在硫酸环境具有无可替代的作用。
三、在200℃以下,不大于90%的硝酸中,锆具有良好的耐蚀性。但应注意锆在硝酸中的应力腐蚀开裂敏感性。
四、锆在所有浓度甚至沸腾的苛性碱溶液中都耐腐蚀。耐蚀性超过了钽、铌、钛。

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